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高精度X熒光鍍層測(cè)厚儀精度0.001μm

簡要描述:高精度X熒光鍍層測(cè)厚儀精度0.001μm
采用先進(jìn)X射線熒光光譜技術(shù),能無損、快速且精準(zhǔn)測(cè)量金屬及非金屬基體上鍍層厚度,精度高達(dá)0.001μm ,可滿足對(duì)鍍層厚度有嚴(yán)苛要求的檢測(cè)場(chǎng)景。儀器操作簡便,分析速度快,數(shù)據(jù)穩(wěn)定可靠,廣泛應(yīng)用于電鍍、電子、五金等行業(yè),為產(chǎn)品質(zhì)量控制提供有力保障。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2026-01-16
  • 訪  問  量:566

詳細(xì)介紹

高精度X熒光鍍層測(cè)厚儀精度0.001μm

深圳市天創(chuàng)美科技有限公司銷售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀(含能量色散和波長色散型)(XRF)、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)、原子熒光光譜儀(AFS)、原子吸收分光光度計(jì)(AAS)、光電直讀光譜儀(OES)、氣相色譜儀(GC)、液相色譜儀(LC)等。產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域有電子電器、五金塑膠、珠寶首飾(貴金屬及鍍層檢測(cè)等)、玩具安全(EN71-3等),有害物質(zhì)(ROHS和鹵素)、建材(水泥、玻璃、陶瓷等)、合金(銅合金、鋁合金、鎂合金等)、冶金(鋼鐵、稀土、鉬精礦、其它黑色及有色金屬等)、地質(zhì)采礦(各種礦石品位檢測(cè)設(shè)備)、塑料(無鹵測(cè)試等)、石油化工、嶺土、煤炭、食品、空氣、水質(zhì)、土壤、、商品檢驗(yàn)、質(zhì)量檢驗(yàn)、人體微量元素檢驗(yàn)等等。總之銷售的儀器設(shè)備應(yīng)用于元素分析,化合物測(cè)試,電鍍鍍層厚度檢測(cè)。

以下是X熒光光譜儀測(cè)試電鍍鍍層的儀器簡介:

鍍層檢測(cè):

常見金屬鍍層有:

 鍍層

 

基體

Ni

Ni-P

Ti

Cu

Sn

Sn-Pb

Zn

Cr

Au

Zn-Ni

Ag

Pd

Rh

Al

Cu


Zn


Fe

SUS

 

單層厚度范圍:

金鍍層0-8um,

鉻鍍層0-15um,

其余一般為0-30um以內(nèi),

可最小測(cè)量達(dá)0.001um。

多層厚度范圍:

Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um      Ni分析厚度:0-30um

Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um      Ni分析厚度:0-30um

Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um       Ni分析厚度:0-30um

鍍層層數(shù)為1-6層

鍍層精度相對(duì)差值一般<5%。

鍍層成分含量:Sn-Pb合金成分分析;Zn-Ni合金成分分析。

鍍層分析優(yōu)勢(shì):分析PCB金手指最小尺寸可達(dá)0.2mm

單層分析精度,以Ni舉例:(相對(duì)差值)

 Ni層厚度(um)

保證精度

<1.0um

<5%

1.0-5.0um

<3%

5.0-10um

<3%

10-20um

<3%

>20.0um

<3%

元素成分分析:

鍍液分析,目前常見鍍液元素分析有:金、銀、錫、銅、鎳、鉻、鋅。

ROHS 和無鹵檢測(cè),高性能SDD探測(cè)器可以檢測(cè)無鹵,實(shí)現(xiàn)鍍層與環(huán)保一機(jī)多用。

金屬成分分析,在檢測(cè)ROHS同時(shí)可檢測(cè)金屬中其他各元素成分含量。

檢測(cè)精度:

Cr,Cd,Hg,Cu, Zn, Fe, Ni, Pb, Mn, W, Au, Ag, Sn等重金屬

檢測(cè)限達(dá)1ppm。

對(duì)這些金屬測(cè)試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達(dá)到下列標(biāo)準(zhǔn):

A. 檢測(cè)含量大于5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取相對(duì)差值小于1%

B. 檢測(cè)含量在0.5~5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取相對(duì)差值小于2%

C. 檢測(cè)含量在0.1~0.5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取相對(duì)差值小于5%

D. 檢測(cè)含量低于0.1%的元素測(cè)試讀取相對(duì)差值變化率小于10%

測(cè)量精度:

1)精度(單層):

                              測(cè)厚儀的檢測(cè)精度表

Ni層厚度(um)

精度

<1.0um

<5%

1.0-5.0um

<3%

5.0-10um

<3%

10-20um

<3%

>20.0um

<3%

    測(cè)試方法: 在相同的操作條件下,對(duì)同一標(biāo)準(zhǔn)樣板進(jìn)行5次檢測(cè),檢測(cè)到的平均數(shù)據(jù)與標(biāo)樣板的實(shí)際數(shù)據(jù)作比較。檢測(cè)精度為檢測(cè)平均值與標(biāo)準(zhǔn)樣片實(shí)際值之差(平均誤差)

2)兩層及以上:

  兩層及以上的首層精度符合單層的測(cè)試結(jié)果,但是第二層以上比較復(fù)雜,要根據(jù)上面一層的厚度來決定。在一層厚度小于2um時(shí),一層和二層的測(cè)試精度基本符合單層的精度,參照如下的測(cè)試報(bào)告 一層金標(biāo)樣厚度0.101um,第二層鎳的標(biāo)樣厚度為4.52um。

    一層厚度在2~5um時(shí)會(huì)大大降低第二層的和第三層的測(cè)試精度,第二層的誤差率會(huì)在5~10%,第三層的誤差率小于15%。

重復(fù)性:

保證重復(fù)性值:±5%

    重復(fù)性的檢測(cè)應(yīng)在儀器校準(zhǔn)后: 在相同的操作條件下,使用相同的檢測(cè)樣板做連續(xù)重復(fù)檢測(cè),連續(xù)測(cè)量必須在同一檢測(cè)點(diǎn)位置使用一同樣片間隔60秒,測(cè)量一共進(jìn)行10次,每次測(cè)量值與10次平均值進(jìn)行對(duì)比。

重復(fù)性=平均誤差÷平均值×100* %.

報(bào)告打印:

可以PDF,Excel格式輸出報(bào)告,歷史數(shù)據(jù)查詢方便

安全使用,維護(hù)與保養(yǎng)

由于儀器非常精密,未經(jīng)允許情況請(qǐng)不要打開儀器外殼,不要對(duì)X射線源和探測(cè)器進(jìn)行改變,由用戶自身原因造成儀器損壞本公司將不負(fù)責(zé)任。

儀器安裝一定要平穩(wěn),儀器后面離墻距離不得小于30厘米,必須使用標(biāo)準(zhǔn)的220V交流電,電壓不穩(wěn)情況要配備穩(wěn)壓電源,插座必須接地良好,由用戶電源不合乎要求造成損失由用戶負(fù)責(zé)。

請(qǐng)不要用濕的手觸摸電源部分,帶水的手也不要碰儀器外殼以免發(fā)生觸電。

進(jìn)行測(cè)量時(shí),因?yàn)楦唠妷毫髦?/span>X射線源,儀器運(yùn)行時(shí),不要嘗試打開或觸摸蓋子。由于高電壓源必須通過自動(dòng)運(yùn)行或者遵循用戶指南中止。

儀器環(huán)境要求:儀器使用環(huán)境需清潔,溫度適宜15℃~30℃,濕度80%,電源:AC: 220V ±5V。

以上細(xì)節(jié)均有可能造成無法預(yù)測(cè)后果,買方應(yīng)予以基本遵守。


高精度X熒光鍍層測(cè)厚儀精度0.001μm

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